针对9月6日荷兰宣布将扩大光刻机的管制范围一事，商务部近日在发布会上对此进行了回应。

商务部发言人指出，近来，中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商。荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上，进一步扩大对光刻机的管制范围，中方对此表示不满。

近年来，美国为维护自身全球霸权，不断泛化国家安全概念，胁迫个别国家加严半导体及设备出口管制措施，严重威胁全球半导体产业链供应链稳定，严重损害相关国家和企业正当权益，中方对此坚决反对。

商务部发言人表示，荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，尊重市场原则和契约精神，避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展，不滥用出口管制措施，切实维护中荷企业和双方共同利益，维护全球半导体产业链供应链稳定。

此前报道：荷兰政府宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制措施，即从 9 月 7 日起，更多类型的半导体制造设备将受到国家授权要求的限制。这一措施规定，从现在起，公司在出口此类先进制造设备时必须申请授权，政府将根据具体情况对申请进行评估，因此这并不是一项出口禁令，措施适用于从荷兰出口到欧盟以外的目的地。对于这一措施，荷兰光刻机巨头阿斯麦回应称，根据更新的许可证要求，阿斯麦将需要向荷兰政府而不是美国政府申请 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 浸没式 DUV 光刻机的出口许可证。TWINSCAN NXT:2000i 及其后的浸没式 DUV 系统已经有了荷兰出口许可证要求。阿斯麦 EUV 系统的销售也受许可证要求的限制。阿斯麦表示，由于这是一项技术性变更，预计不会对公司 2024 年的财务前景或长期方案产生任何影响。