ASML对外展示了最新EUV光刻机内部画面，或许在他们看来，就算把这些全部展现给大家看，也没办法来偷师他们的技术。

该系统已获得英特尔公司的订单，首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的D1X工厂，英特尔计划在 2025 年年底开始使用该系统进行生产。

High-NA EUV光刻机能够在半导体上蚀刻出仅8nm宽的线条，是上一代产品的1/1.7。更细的线条意味着芯片可以容纳更多的晶体管，从而实现更快的处理速度和更高的存储容量，这对于人工智能工作负载至关重要。

该公司上季度收到了创纪录的顶级EUV光刻机订单，显示了包括英特尔、三星电子和台积电在内的大客户对该技术的乐观预期，由于种种因素限制，中国厂商是没办法被允许购买这些设备的。

有网友甚至感慨，即便这些内部结构展示给国产厂商，可能真正阻碍下也没办法去逆向推演复刻。