近日，有媒体报道称，在芯片全面被美国制裁后，俄罗斯打算自己研发光刻机，并且一出手就对标当前最牛的ASML的EUV光刻机技术。

而为了研发出这种光刻机，俄罗斯前期投资6．7亿卢布（约5400万元人民币），由有着苏联硅谷中心之称、以微电子专业见长的俄罗斯莫斯科电子技术学院 （MIET）来负责。

一时之间，网友们沸腾了，看好者有之，吐槽者有之。

有人说5400万就想研发出比EUV更牛的光刻机，真的是做梦，要这么容易，中国早研发出来了，佳能、尼康也不至于被ASML打得找不着北了。

也有人看好，称俄罗斯的理论技术还是很厉害的，一旦下定决心来研发，说不定是有可能的，我们乐观其成。

那么俄罗斯要搞的技术，究竟是什么技术？为什么说比ASML的EUV光刻机还先进？其实是一种“无掩膜X射线光刻机”。

原理就是操作波长是0．01nm到10nm之间的X射线，直接在硅片上，刻画出电路图来，类似于激光刻章那种。

由于芯片的精度，一定程度上是与光线相对应的，而EUV采用的是13．9nm波长的光源，所以从光源看，X射线似乎确实更厉害一点。

其实这项技术在30年前就提出来了，但是你想一想，操纵X射频，在硅片上直接刻几十层、上百亿个晶体管的电路图，可不是刻章刻几个字的问题，你想一想就知道有多难。

所以虽然30多年来一直有研究，但大家并没有用于芯片制造，而是采用了现在的光刻原理，就是先制作电路图的掩膜，再通过光刻机来照射，把掩膜上的电路刻到硅晶圆上，这样虽然流程很复杂，但可操作性就大多了。

只是现在俄罗斯要想搞光刻机，没有厂商敢与他合作，所以不得不另辟蹊径，走这条看起来简单，也不需要太多厂商合作的方式，这是没有办法的办法。

至于能不能成功，又谁知道呢，反正除了ASML外，其它各国，甚至各大芯片企业都希望它能够成功的，特别是中国，可是热切的希望它能够成功。