12月14日消息，CNBC 报道称，全球最先 进的光刻机厂商荷兰AMSL公司正在开发一种新版本的EUV光刻机，将成为世界上最先 进的芯片制造设备。中国现在连EUV光刻机都买不到，所以，对于这种更新型的光刻机，更要警惕。

这种光刻机被称为 High NA（高数值孔径）。据称，第一台高 NA 机器仍在开发中，预计从 2023 年开始提供先行体验，以便芯片制造商可以更快地开始验证并学会如何使用。然后，客户可以在 2024 年和 2025 年将以此进行自己的研发工作。从 2025 年开始，它们很可能用于大批量制造。

这种NA光刻机可以让芯片制造商研制出更复杂的芯片。光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。EUV光刻机如今名气巨大，其实推出时间并不长。

NV光刻机还没问世，就已被全球各芯片厂盯着。今年 7 月，英特尔首席执行官表示，该公司有望成为 ASML 新机器的第一个接收者。

而2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV（极紫外线）光刻机，按理于2019年初交货，却迄今未收到货，因为美国为了限制荷兰ASML公司向中国公司出口极紫外光刻机（EUV），对荷兰屡次施压。  最终，荷兰不再续签 ASML 的出口许可。而中国则是 ASML 公司的第二大客户，占其营业总收入的 20%，ASML也希望能增加其在华的销量。

假如几年之后ASML公司推出更新型的光刻机，那中国和国外的芯片代工能力的差距有可能进一步拉大。