日前，业内领先的半导体设备供应商ASML发布了公司2020年第三季度的财报。财报显示，净销售额（net sales）金额为 40 亿欧元，净利润金额（net income）为 11 亿欧元，毛利率（gross margin）达到 47.5%。从订单上看，公司在第三季度新增订单（net booking）金额为 29 亿欧元。

　　据该公司首席执行官Peter Wennink 介绍，ASML在第三季度一共交付了 10 台 EUV 系统，并在本季度实现了 14 台系统的销售收入。而在第三季度的新增订单达到 29 亿欧元，其中 5.95 亿欧元来自 4 台 EUV 设备。从这个说明我们可以看到，ASML EUV光刻机的售价约为1.48亿欧元，折合人民币11.74亿元。

　　从上图可以看到，EUV光刻机占公司营收的比重，从上个月的39%跃升到本月的66%。而从终端用户的数据来看，这些购买者主要集中在logic方面的客户方面。而从该地区上看，中国台湾地区贡献的营收从上季度21%提升到本季度的47%，由此可以见到，这主要是由台积电采购EUV光刻机引发的转变。

　　与此同时，韩国贡献的营收正在下降，从中可以看出点端倪，也能理解为何三星的高管最近去荷兰拜访ASML总部，相信是为了争取更多的光刻机。

　　在谈到第四季度的预测，ASML方面表示，我们期待第四季度的销售额将在 36 亿欧元到 38 亿欧元之间，毛利率约在 50%。研发成本约 5.5 亿欧元， 销售及管理费用约 1.4 亿欧元。我们将实现 2020 年全年的销售预期。预估 2020 年度有效税率在 14%左右。

　　在发布EUV财务数据的同时，ASML还带来了两款新设备，分别是DUV领域的TWINSCAN NXT:2050i和EUV领域的TWINSCAN NXE：3600D

　　ASML进一步指出，NXT：2050i 基于 NXT 平台的新版本，其中包括掩模版工作台，晶圆工作台，投影物镜和曝光激光器的技术改进。由于这些创新，该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生产率。

　　他们也表示，在 EUV 光刻业务领域，公司绝大部分 TWINSCAN NXE:3400B 系统在客户处同时进行了生产率模组的升级。而TWINSCAN NXE：3600D 则是公司EUV 路线图上的新机型， 30 mJ / cm2 的曝光速度达到每小时曝光 160 片晶圆， 提高了 18%的生产率， 并改进机器匹配套准精度至 1.1 纳米。根据计划，他们将于2021 年的中期开始发货。

　　据相关资料显示，目前，ASML已经投产的最先进光刻机是3400C，但主力出货型号是3400B。参数方面，3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小时可曝光125片晶圆。

　　附公司财报说明会文件：