光刻机是半导体生产制造流程的核心设备，由于技术复杂、技术垄断，导致价格昂贵。

    最近，光刻机全球领导厂商荷兰ASML发布最新报告，ASML宣布，今年一季度，他们共获得了73 台光刻机订单，其中 11 台是极紫外EUV光刻机。这 73 台光刻机订单中，有 72 台将是新生产的光刻机，另外 1 台则是翻新的光刻机。据介绍，这73 台光刻机订单金额高达 30.85 亿欧元，其中11台EUV光刻机的订单金额为15亿欧元。

    根据ASML此前的财报数据，2019年Q1,ASML获得的光刻机订单是 34 台，金额 13.99 亿欧元。相比去年一季度，无论是订单数量还是订单金额，ASML在今年一季度都实现了暴增。

    从高端的极紫外EUV光刻机订单量来看，ASML去年的财报显示，2019年ASML全年共计出货26台EUV光刻机，而今年仅一季度就获得了11台EUV光刻机订单，可以预计，今年在EUV光刻机的出货量上，也要远超去年。

    根据最新的订单金额，21ic小编粗算了一下，最高端的EUV光刻机每台大约10亿元人民币，即便是中低端的光刻机产品，每台也要约2亿元人民币。

    这么昂贵的设备，ASML的光刻机都卖给了谁呢?

    光刻机是半导体生产的必备设备，全球的晶圆厂、代工厂原则上都是ASML的潜在客户，尤其是在EUV光刻机产品上，ASML是独家供货商。根据去年的数据，其售出的26台极紫外线(EUV)光刻机中的一半左右卖给了台积电公司。

    中国的晶圆代工企业中芯国际也向ASML预定了极紫外EUV光刻机，但遗憾的是，由于种种原因，目前仍未能到货。

    不过，虽然没有EUV光刻机，但据中芯国际梁孟松介绍，中芯国际已研发了N+1、N+2工艺，N+1与现在的14nm工艺相比，性能有20%的提升，功耗将会降低50%，并且SoC面积对比减小55%。如果从性能上来看，该工艺与7nm稍有差距，但是功耗要低得很多。可以看出，基本上，中芯国际N+1、N+2工艺已十分接近7nm工艺，该技术将于2020年底开始试验产能。