众所周知，半导体工艺是非常高精密的高科技工艺，像台积电这种新工艺界的带头人也不可能自己完全搞定，而是依赖整个产业链的设备和技术供应，比如大家比较熟悉的光刻机，但是设备仅仅来自荷兰ASML（阿斯麦）一家。

　　ASML一年最多可以生产12台EUV光刻机（NXE：3400B），单台价格超过8亿人民币，媲美一架美军F35战机。台积电在去年砸钱抢到了几台，才让其7nm EUV极紫外光刻工艺芯片完成首次流片，并且台积电的7nm产线已经被AMD等大厂预定。

　　不过从更先进的5nm工艺时代开始，这一垄断恐怕要打破了。近日有实锤在台积电的5nm生产线中，就有来自我国深圳中微半导体的5nm等离子体蚀刻机，完全自主研发，并且已经通过了台积电的验证，台积电的5nm工艺就靠它。中微半导体CEO尹志尧骄傲地形容说：“在米粒上刻字的微雕技艺上，一般能刻200个字已经是极限，而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺，相当于可以在米粒上刻10亿个字的水平。”国产能有这样的成就，中国芯片将屹立世界之巅可不是玩笑话了。