半导体制程持续微缩，量产技术已达14纳米，半导体大厂更朝10纳米、7纳米迈进，连5纳米也在规划中。然而，在制程良率的提升上，半导体业者却可能面临“看不见”的难题。中国台湾地区工研院与台积电合作开发的“新世代溶液中纳米微粒监控系统”，就是这双新眼睛。

在半导体湿式制程中，晶圆表面的清洗、蚀刻与研磨皆需仰赖特定化学溶液进行，而溶液中纳米粒子的尺寸与分布会影响晶圆电路图案（pattern）的制程结果，因此必须持续监控溶液中粒子大小及数量，只要发现溶液粒子不符规格，就要马上暂停及更换，以维持产品良率。

台湾工研院量测技术发展中心何信佳博士指出，传统的雷射光学设备“看不到”化学溶液中40纳米以下的微粒，因此，半导体业者需拥有一双能真正看得到更小微粒的“新眼睛”。

台积电想利用量测气体粒子的方法量测制程化学溶液，且必须能够24小时连续在产线上进行监测。台积电先是向美国知名研发机构NIST求援，该机构专家转而向台积电推荐曾在2010年前往NIST研究的何信佳。